Produktübersicht
Wolfram-ausgekleidete Kupferdüse|Back-Casting-Technologie-Düse|Mehrzweck-Plasmadüse|Kundenspezifische Plasmaelektrodendüse
Die mit Kupfer-ausgekleidete Wolfram-Plasmaelektrodendüse ist eine Hochleistungs-Mehrzweck-Plasmakomponente, die von hergestellt wirdJFR-eigene Hintergusstechnologie. Es verfügt über eine nahtlose Verbundstruktur aus hoch{1}reinem, sauerstofffreiem-Kupfer und einer hoch{3}dichten Wolframauskleidung mit Präzisionsbearbeitung und strenger Qualitätskontrolle. Es zeichnet sich durch eine hervorragende Wärmeleitfähigkeit, eine extrem hohe Lichtbogenerosionsbeständigkeit, eine stabile Plasmaleistung und eine lange Lebensdauer aus. Es wird häufig in Plasmareinigungs-, Plasmareinigungs-, Plasmaschneide- und Plasmapulverproduktionsanlagen eingesetzt und unterstützt kundenspezifisches Design für verschiedene industrielle Plasmasysteme.
Wichtige Spezifikationen
| Material |
Wolfram-ausgekleidet + sauerstofffreies-Kupfer (nahtlose Hintergussstruktur) |
| Kernprozess |
Fortschrittliche Hintergusstechnologie + Präzisionsbearbeitung |
| Anwendung |
Plasmareinigung, Reinigung, Schneiden, Pulverherstellung |
| Leistung |
Hohe Wärmeleitfähigkeit, geringer Abtrag, stabiles Plasma, lange Lebensdauer |
| Anpassung | Größe, Struktur, Schnittstelle individuell nach Zeichnung/Muster anpassbar |
| Kompatibilität |
Universell für verschiedene industrielle Plasmabrenner und -systeme |
| Verpackung |
Unabhängige Vakuum-Oxidationsschutzverpackung |
Hauptmerkmale
Fortschrittliche Backcasting-Technologie
Nahtlose Kombination aus Wolfram und Kupfer, hohe Haftfestigkeit, keine Risse, keine Delaminierung, wodurch Haltbarkeit und Lebensdauer erheblich verbessert werden.
01
Wolfram-Ausgekleidet, hohe Erosionsbeständigkeit
Die Innenauskleidung aus Wolfram widersteht effektiv der Plasmareinigung bei hohen Temperaturen und weist eine extrem niedrige Ablationsrate bei Langzeitbetrieb unter hoher Belastung auf.
02
Ausgezeichnete Wärmeleitfähigkeit
Das Substrat aus hoch-reinem, sauerstoff-freiem Kupfer sorgt für eine schnelle Wärmeableitung, vermeidet Überhitzung und gewährleistet eine stabile Leistung.
03
Stabile Plasmaausgabe
Das optimierte Strömungskanaldesign sorgt für einen konzentrierten und gleichmäßigen Plasmastrahl und verbessert so die Prozesseffizienz und -konsistenz.
04
Vollständig anpassbar und Plug{0}}and-
Unterstützt individuelle Größe, Form und Schnittstelle; Standardpräzisionsabmessungen gewährleisten einen direkten Austausch und eine einfache Installation.
05
Anwendungsfelder
Plasmareinigung: Präzise Oberflächenreinigung, Aktivierung, Modifizierung für Elektronik und Automobil
Plasmareinigung: Abgasreinigung, Rauchgasbehandlung, Umweltschutzausrüstung
Plasmaschneiden: Metallschneiden, Blechbearbeitung, industrielle Schneidanlagen
Plasmapulverproduktion: Metallpulvervorbereitung, Ausrüstung zur Herstellung von sphärischem Pulver
Warum JFR wählen?
- EinzigartigHintergusstechnikfür mit Wolfram-ausgekleidete Kupferplasmakomponenten
- Vollständige -Prozessproduktion: Rohmaterial, Hinterguss, Bearbeitung, Prüfung, Inspektion
- Ein strenges QA/QC-System sorgt für stabile Leistung und Chargenkonsistenz
- Professioneller maßgeschneiderter Service für Zeichnungen, Muster und besondere Arbeitsbedingungen
- Stabile Versorgung, pünktliche-Lieferung, globaler technischer B2B-Support
FAQ
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